硅鐵冶煉操作：簡介

    冶煉硅鐵及其硅質(zhì)合金時采用埋弧操作，電極分別插在由冶煉產(chǎn)物形成的“坩堝”里，大部分能量都在這里放出。

    爐內(nèi)的冶煉過程主要是在電極附近的“坩堝”中進行的。在“坩堝”的上部是冷料形成的“坩堝”蓋。“坩堝”壁和“坩堝”蓋不斷熔化，并在爐料重力的作用下，被上面的新料所代替，因此，不能把“坩堝”看成是電極下面的凝結(jié)不動的容器，而是在電極端部快速形成的一個高溫反應(yīng)區(qū)，當爐內(nèi)溫度較高時，三個“坩堝”的底連成一片，形成統(tǒng)一的爐料“坩堝”。此“坩堝”的下部是氣體空腔。電極與熔體(坩堝底)之間的距離大約是3O0mm。

    爐缸轉(zhuǎn)動時，電極對爐料的作用像耕地一樣，使反應(yīng)區(qū)擴大一倍，爐子下料暢順，還原劑的過剩量可低些，且可利用品位低的還原劑。由于電極插得深和爐底加熱良好，故排渣順利，碳化物破壞徹底，從而有利于改善爐況

和延長爐襯壽命。硅鐵冶煉具體操作要點如下文。